|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3386 van 4119 gevonden artikelen
| Titel: |
The effects of TMDD-PA concentration on roughness of Si 〈1 1 0〉 and etching rate ratio of Si 〈1 1 0〉/〈1 1 1〉 in alkaline KOH solution |
| Auteur: |
Zhu, Chunlin Jiao, Qingbin Tan, Xin Hu, Hao Bayanheshig, |
| Verschenen in: |
Chemical physics |
| Paginering: | Jaargang 529 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3386 van 4119 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |